ENPULSE·材料创新
首席执行官致辞
聚焦 CMP 抛光垫核心材料，持续提升半导体制造支撑能力。
CMP愿景
半导体领导地位
晶圆视觉元素展示了 Enpulse 围绕 CMP 抛光垫所构建的材料技术形象。
领导力关键词
1
化学机械抛光垫
经过验证的工艺经验
面向不同平坦化工序提供可验证的抛光垫解决方案。
2
研发
下一代创新
围绕材料科学、分析评价与未来节点需求持续布局研发能力。
3
SHE
安全与可持续发展
世界一流的 SHE（安全·健康·环境）平台，保障可靠且负责任的运营。
首席执行官致辞
致各位客户与合作伙伴
欢迎访问 Enpulse Co., Ltd. 官方网站。
自 2015 年起，Enpulse 持续推进半导体 CMP 抛光垫的研发与产业化，不断积累材料开发、工艺匹配与量产验证经验。
2020 年，我们在忠清南道天安建成全自动化智能工厂，进一步夯实 CMP 抛光垫量产能力；同时持续布局研发中心与综合评价分析平台，以更高效地推进基础材料研究、产品开发和客户验证。
依托智能工厂平台，我们对生产数据进行实时采集与监控，通过自动化系统降低人为误差，提升制造稳定性与品质一致性；同时对出货产品实施严格检验，并持续完善安全管理体系。
围绕研发、生产、质量与安全管理体系，Enpulse 正与全球客户及合作伙伴持续开展多样化产品合作。面向未来，我们将继续坚持技术创新、稳定交付与可持续发展。
谢谢。
Enpulse Co., Ltd.
首席执行官兼执行董事 Minho Ha