CMP Pad
Global No.1 CMP Pad 기술로 반도체 웨이퍼 평탄화의
새로운 기준을 제시합니다
왜 중요한가
차세대 집적도를 여는 CMP Pad
엔펄스는 해외 의존도가 높던 CMP Pad를 국산화하고, 고객 공정층별 요구에 맞춘 맞춤형 설계 역량을 확보했습니다.
- 완전한 가치사슬. Prepolymer 설계부터 주조·검사까지 한 번에 수행해 안정적인 품질을 유지합니다.
- 고객 공동 개발. Groove, Bottom Stack, Polymer 조합을 고객 공정에 맞춰 빠르게 조정합니다.
- ESG 대응. VDC-Free, MOCA-Free, Bio-based 등 친환경 조성으로 리스크를 낮춥니다.
생산거점
2개 거점
국내 2개 생산거점 운영
공정 커버리지
STI · ILD · W · Cu
층별 전용 패드 라인업
납기
신속
공동 개발 후 수주 내 시험 생산·검증
품질체계
MES + RTDB
스마트팩토리 추적성과
SPC 대시보드
핵심 기술 및 경쟁력
자체 원료 설계
Prepolymer부터 완제품까지
모두 자체 설계·생산해 안정성을 확보합니다.
공정 맞춤
연마성능과 결함 제어를 함께 튜닝해
고객 공정 스펙을 만족시킵니다.
표면·기공 엔지니어링
하이브리드 기공 시스템과 표면 개질 기술로 일정한 제거율과 낮은 스크래치를 구현합니다.
제품군 소개
공정 단계별 맞춤 CMP Pad 라인업
표준·고성능·친환경 세 축으로 제품군을 나눠 공정 특성에 맞는 패드 컨셉을 빠르게 안내하며, 세부 사양은 문의 시 영업 담당자가 맞춤으로 안내합니다.
시리즈 개요
Metal & Dielectric 공정의 표준 패드
V-HD는 다양한 메탈/산화막 층에서 균일한 제거율과 긴 수명을 확보한 범용형 플랫폼으로, 레이어별 템플릿과 슬러리에 맞춰 빠르게 커스터마이징 됩니다.
- 양산 레퍼런스 검증 완료
- 슬러리 특성에 맞춘 균일 기공 제어
- 템플릿·그루브 패턴 맞춤 설계
- 사전시험·공정연계 지원
※ 구체 모델명·수치는 아래 문의 페이지에서 영업 담당자에게 요청하실 수 있습니다.
시리즈 개요
고속 연마 & 결함 저감 컨셉
V-IS/V-HT/V-RD는 기공·밀도·네트워크를 다르게 설계해 산화막·ILD 고난도 공정에서 제거율과 결함 억제를 동시에 잡는 고성능 패드군입니다.
- 산화막/ILD 전용 레시피
- 하드마스크 대응 고강성 구조
- 기공·표면 동시 엔지니어링
- Scratches/Defect 최소화
※ 상세 파라미터는 고객 공정 정보를 확인한 뒤 공유합니다.
시리즈 개요
친환경 조성 & 재사용 파일럿
V/M/E/B 라인은 유해물질 Free 조성과 바이오 기반 소재 적용, 리클레임·버핑 재사용까지 고려한 ESG 대응형 패드 포트폴리오입니다.
- VDC/MOCA Free 옵션
- Chlorine Down/친환경 조성
- Bio 기반 소재 시범 적용
- 리클레임·버핑 재사용 검토
※ ESG 인증서 및 실증 데이터는 협의 후 제공됩니다.